制造芯片光刻机，蚀刻机，流水线反复作业都与光刻胶有亲密接触，如果说是二人转，那么光刻胶如同二者的手绢。光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的、对光敏感的混合液体。利用光化学反应，经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的移到待加工基片上的图形转移介质，其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、...