中微公司董事长尹志尧：美国希望使我国芯片制程滞后至少5代｜硅基世界
国产半导体制造设备供应商中微公司创始人、董事长兼CEO 尹志尧
随着美国政府不断升级芯片出口管制措施，国内芯片设备厂商开始评估制程差距和全球半导体行业风险。
钛媒体App获悉，8月10日无锡举行的2023年我国电子专用设备工业协会半导体设备年会开幕式上，芯片设备企业中微半导体公司（AMEC）创始人、董事长兼CEO尹志尧表示，自2019年至今，美国政府已发布15轮半导体**政策，其目的就是要遏制我国芯片行业发展，包括14nm在内，让我国芯片制程比海外差距至少五代。
“去年10月7号以前，他们（美国）打的旗号是不允许我国的集成电路给**等国提供技术解决方案，但是10月7日以后，美国真正目的暴露了，它就是要**我们（我国）集成电路和国外有至少5代的差距。过去是两代，现在五代的差距。从3nm往回推到14nm，只允许我们做28nm。”尹志尧强调，这样的情况我国是不能接受的。据悉，14nm FinFET于2015年初量产，所以这意味着14nm到3nm，我国在芯片制程上滞后超过9年。
尹志尧还表示，2023年芯片制造厂投资中，美国、日本和荷兰的半导体设备占国内设备采购的85%左右，国产设备只占10%-18%。而我国留学生在美国半导体设备产业发展中起到关键作用。如今，我国留学生回到国内发展芯片产业，但国内芯片企业却出现部分恶性竞争和“内卷”行为，包括不断降低**、**知识产权、高薪挖人等，尹志尧建议政府和行业应制定公平竞争法则和规范，促进产业健康发展。
这是尹志尧罕见公开谈及美国**措施对国内芯片产业制程落后的现状。
据悉，中微公司成立于2004年，是我国最大的国产半导体等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备供应商，总部位于上海，在新加坡、日本东京等15个区域拥有办公室和6个境外子公司，员工共超过1500人，其设备可用于加工微米级和纳米级的各种器件，从而为集成电路和泛半导体行业提供高端设备和服务。
中微提供的等离子体刻蚀设备，是芯片制造中光刻环节的关键组件。首先，使用掩模（光罩）将预定图案投射到涂有光刻胶的晶圆（例如硅片）上。接着，光刻机照射晶圆，使其被照射部分发生化学变化。在这之后，依据光刻形成的图案，刻蚀设备采用化学或物理方法，精确地去除硅片上暴露的部分，而由光刻胶覆盖的区域保持不变。这样，晶圆上的电路结构便得以形成。
而且，刻蚀和化学薄膜也能够弥补光刻机的不足，因为光刻机只能做到14nm，那么7nm、5nm是通过二重模板、四重模板方法，需要用到刻蚀、化学薄膜等设备，使光刻尺度减少至25%-50%，从而形成更先进的5nm芯片。
简而言之，晶圆光刻为刻蚀提供"模板"或"指南"，而刻蚀则执行这个"指南"，在材料中创建实际的芯片结构。目前，中微CCP刻蚀机可覆盖65nm到5nm及更先进制程的逻辑芯片，其ICP刻蚀机则涵盖14nm到5nm制程。
2022年，全球刻蚀设备市场高达1550亿元，而中微占据全球刻蚀设备市场前四位，其他三家是美国泛林（Lam Research）、日本东京电子（Tokyo Electron）和美国应用材料（Applied Materials），四家共占全球干法刻蚀机市场90%以上份额。
中微公司董事长兼CEO尹志尧为美国国籍，毕业于我国科学技术大学化学物理系，获北京大学化学学院硕士、美国加州大学洛杉矶分校物理化学博士学位，曾担任硅谷的英特尔中心技术开发部工艺工程师，泛林半导体研发部资深工程师、研发部资深经理，应用材料等离子体刻蚀设备产品总部CEO、总公司副总裁及等离子体刻蚀事业群总经理、亚洲总部CTO，2014年回国成立中微公司。此外，2019年3月起尹志尧还担任澜起科技**董事。
2019年7月，中微公司（688012.SH）在科创板**上市，成为科创板首批上市公司之一。
值得注意的是，2021年1月，美国政府将中微公司、小米等9家我国企业列入所谓“与我**方相关”的实体名单中，这些公司受到美国新的投资禁令**，四个月后该名单删掉了中微公司。尹志尧表示，“（美国列入黑名单）这是无稽之谈。经过4个月的严正交涉，他们勉强把我们拉下来了。”
去年10月7日，美国***工业和***（B**）发布多项半导体出口管制新规，其中规定美国供应商若向我国本土芯片制造商**尖端生产设备，包括16nm或14nm及以下逻辑芯片、半间距不超过18nm的DRAM芯片、128层或以上的NAND闪存芯片，必须申请许可证并将受到严格审查。而且B**称，在我国境内，原则上禁止“美国人”在先进制程芯片制造厂支持芯片的开发或生产，先进制程对标前述三条线。因此，美籍华人尹志尧是否继续参与中微曾引发一段争议，今年7月中微公司在上交所投资平台回复称，尹志尧目前正常履职。
此次半导体设备年会上，尹志尧以《集成电路设备产业发展的现状和挑战，人类第三次工业**的到来》为题发表演讲，主要包含三部分：一是谈及严峻的国际形势和国内发展的挑战；二是介绍中微公司发展状况；三是探讨关于人类工业**的断代问题。
首先在国际形势方面，尹志尧表示，目前，美国、日本和荷兰的半导体设备占国内设备采购的85%左右，而国产设备只占10%-18%。因此，最新美国联合日本和荷兰**我国芯片产业，真正目的就是**国内芯片设备。而它是支撑6000亿美元的半导体芯片设计和制造产业发展的关键动力，更深层次是当前工业**的基础是微观加工能力。
尹志尧称，最新的行政命令——针对美国对我国半导体、人工智能和量子技术的投资**，是美国对集成电路产业遏制的“第16招”。
尹志尧认为，除了光刻机之外，全球几乎70%-80%的半导体设备都是由美国成功研发出来的，与此同时，刻蚀机、光学检测等11类美国半导体设备中，都是由我国留学生领街或作为主要技术骨骨干开发、参与的。如果没有我国留学生的贡献，美国就没有现在的半导体设备产业。
“所以现在美国政府想用设备来卡我国，一是完全没有道理的，二是也是没有任何好的结果，因为大部分的领军人物都已经回国，在很多公司里都是骨干和，所以我们有充分的信心，数年后我们一个会开发出国际竞争力的设备产业。”尹志尧表示。
他提到，现在一条大规模的12英寸生产线需要投入100亿美元，当中70%（70亿）是用于购买芯片设备。而设备中包含十大类、170多种、3000多台细分设备。这就意味着从成本来看，半导体设备值得重视，尤其这一市场还是被海外厂商把持的时候，发展我国半导体设备产业就显得更为重要。
国内发展挑战方面，尹志尧称，目前国内芯片和设备产业出现"恶性竞争”的内卷问题：用各种方式，非法获得竞争者的商业机密，用反向解剖抄袭竞争者的产品设计，**别人的产品；企业既制造芯片，又开发设备，抄袭仿制供应商提供的设备；用50%，以致100%的高薪，挖别的公司的人才，搅乱人才市场；不是靠产品的技术的先进和性能优越，而是靠降低**，不惜亏本的恶性竞争；为财务回报和政绩，私募资金和城投基金盲目重复的投资，造成内卷和低成功率；离开公司时带走公司技术资料和商业机密，开发和原所在公司相同的技术和同类设备等。
尹志尧认为，高科技领域的竞争是一个正常的现象，是推动科技发展的动力，但这种竞争必须是公平、合理、有序的，而恶性的竞争就是“内卷”，这种“内卷”是产业发展的“绊脚石”。
他呼吁，政府和行业应该制定一些公平竞争的法则和规范，降低内卷，防止恶性竞争。“现在我国要想把国内芯片设备产业发展起来，一定要合起来干，能够互相配合，而不是恶性竞争。”
截至目前，我国半导体设备及零部件企业数量已超过200家。据统计，2022年，77家规模以上的国产半导体设备企业收入累计达593亿元，同比增长53.6%，其中前十大企业营收占总收入的73.9%。
尽管表面看来，国内芯片设备发展良好，但此次会议期间多位行业人士表示，我国半导体设备公司在市场份额和技术成熟度方面仍落后于ASML、泛林、科磊等全球同行，尤其在光刻机、化学机械研磨设备、离子注入机等设备领域国产化率低于10%，几乎没有全球影响力，部分零部件也需国外采购。除了设备，光刻胶、掩模版等芯片材料的国产化率低于10%，在芯片产业逆全球化的当下，我国“小而散”现象使部分国产芯片设备、材料无法满足芯片制造厂的核心需求，短期内“国产替代”难以为继。
其次，谈及中微公司发展现状，尹志尧表示，2022年公司营收为47.40亿元，同比增长52.5%，此前2021年增长36.7%；扣非归母净利润9.19亿元，同比增长183.44%。自2012年到现在的11年间，中微公司保持30%增速。截至2022年底，中微共有超过3311个反应台，在86家客户106条生产线全面量产，累计装机台数每年增长率超过35%。
而今年，尽管整个国内半导体设备市场降幅超30%，但今年上半年中微营收同比增长28%，利润增长超100%。
最后谈到人类工业**的断代问题，尹志尧认为，目前人类已经历蒸汽机、电气机和数码信息时代。而如今，第三代工业**已经悄悄到来，尹志尧定义为超人时代（Superman Age）。他指出，这场新的工业**会给人类生产和生活方式带来更深刻的改变，从智能化变成超人化的过程，包括原生人的改进、超智能的机械人、生物工程造出人的**和整体人等技术路线。
“集成电路与生物医药结合可能会促进第三次工业**发展。”尹志尧在结尾提到人体科学问题，他十分看好脑机接**术对于未来微观加工产业发展。（本文首发钛媒体App，作者｜林志佳）
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