中企公开EUV光刻机专利，现在明白了，ASML着急出货的原因？
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作为全世界光刻机领域的头号交椅，ASML的光刻机在世界上名列前茅，堪称光刻机企业的领头羊，哪怕ASML已经量产EUV几十年了，但是能够生产EUV光刻机的企业仍然寥寥无几，数量少之又少。作为行业内的龙头企业，ASML在光刻机领域堪称垄断，全世界的芯片企业都依赖ASML的光刻机，但是，ASML当下的处境其实并不好，甚至有点尴尬。
尴尬的ASML
虽然在光刻领域ASML是龙头企业，但是其实关于EUV光刻机的生产，ASML极度依赖于美国日本德国等国家的相关技术与材料，ASML自己所掌握的核心技术比例不到10%，这就导致了在光刻机的出货方面，ASML的**度其实并不高，受到许多方面的影响。
市场情况也让ASML有些尴尬，高端芯片所需要的EUV光刻机，实际上只有三星台积电等极少数企业有所需要，顶尖的NA EUV光刻机则更少企业能够用得起用得上。作为占比绝多数的普通企业，所使用的都是成熟技术，对于光刻机的需求仅仅停留在很基本的层面。
这就导致了，虽然是垄断了光刻机，但是ASML对客户的依赖和客户对ASML的依赖其实相差无几。垄断地位固然能够让ASML获取一定的垄断利润，却也让其的营收受到客户的影响。
美国与荷兰沟通后要求**ASML**出货EUV之后，ASML失去了一项重要的营收来源，于是只好将重心放在大量出货DUV光刻机之上，这也是为什么ASML的执行总裁前段时间在世界上公开宣布将会加大对我国DUV光刻机出货的原因之一。但是，现在美国又要求要**DUV光刻机的**出口，让ASML更加尴尬了。
而我国近来在EUV方面取得的进步，让ASML陷入一种紧张的状态
光刻机领域新突破
自从我国企业能够自主生产中低端的光刻机之后，ASML便开始有些紧张，担心我国企业在光刻机领域的核心技术不断突破，将来会有一天攻克EUV光刻机的相关技术难度，让ASML失去其垄断地位。而近来，随着我国在光量子芯片以及光刻机探测器等多个领域相继突破之后，我国企业在光刻机曝光成像等方面又取得了重大的进展。
根据国家知识产权官网公布的信息显示，传芯半导体最近新申请并且公开了一项名为“曝光成像结构、反射式光掩模板组及投影式光刻机”的专利，而根据相关情报，该专利在提升光刻机的分辨率和对比度方面有着极强的效果，并且能够简化光刻工艺，而且，该专利也适用于EUV光刻机。
光刻机领域的核心技术涉及多个国家与企业，相关的专利技术申请极其困难，认证也十分严格。所以，本次光刻机相关工艺的专利申请意义十分重大，这标志着我国在EUV光刻机领域进步不小，在技术进步的背后，更意味着我国自主科研能力的增强。
ASML慌了
面对我国在光刻机领域，尤其是EUV光刻机领域的相关技术突破，ASML越来越感觉到一个挑战者正在崛起。最让ASML难受的是，受到美国的影响，ASML自身无法**出货，特别是美国关于ASML出口光刻机给我国企业要求极其严格，甚至是完全禁止的。这意味着，ASML很难对我国市场进行干预，进而影响我国企业对于光刻机，尤其是EUV光刻机的研发。让ASML眼睁睁的看着我国企业不断在EUV光刻机领域越走越远。
我国企业在光刻机领域的崛起让ASML开始有些恐慌了，于是一方面趁美国没有**其DUV光刻机出口我国，大量像我国**DUV光刻机，一方面又在国际上声讨美国，要求**出货，并且加大了在光刻机领域的研究投入，企图多管齐下，**我国企业在光刻机领域的研究，最大化程度拉开差距。
近来，ASML的执行总裁在国际上发表相关意见，其声称我国半导体市场作为世界半导体市场中重要的一员，抛开我国半导体市场会使得世界半导体市场陷入瘫痪。其言下之意代表着，若是美国一意孤行，要隔绝我国半导体市场，那么世界半导体市场也会陷入极大程度上的混乱。
在国际上发表相关意见的同时，ASML还加大了在光刻机领域的研究投入，这一行为却让外国媒体慌乱了，表示ASML这种行为会导致国际半导体领域的资源配置失衡。
我国自主科技的崛起
面对ASML，我们无法改变什么，无论其是听从美国的要求**光刻机出口我国，还是其为了自身的利益反对美国的芯片新规，都不是我们能够改变的，我们所能做的就是加强自主科技的研发，争取早日突破外国的束缚，避免卡脖子的事件再次发生。
小结：
其实！近年来，以华为中芯国际等为首的我国企业在国家的提倡带领之下，增强了自主科技的研发投入。在芯片以及光刻机等多个领域取得了重大的技术突破，在很多方面都极大程度上减少了对国外的技术的依赖，虽然我国离科技完全**还有很长的路要走，但是我相信按照现在的情况发展，我国迟早会摆脱对国外技术的依赖。
不知道对于我国在EUV光刻机领域的核心技术突破你们是怎么看的呢？
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