知道什么是光刻机么？光刻机霸主是谁？为什么不是美国？
ASML光刻机
光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。
光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，其制造和维护均需要先进和强大的光学及电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握这种基础。因此光刻机**昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元，大约在深圳湾一套房子的**。。。。
主要厂商,光刻机霸主是谁？
光刻机霸主ASML
ASML公司总部
- 阿斯麦公司是在荷兰费尔德霍芬的半导体设备制造商。公司同时在欧洲和美国NASDAQ上市。从业员工20000多名。在世界16个国家和地区有60个子公司和生产据点。
- 阿斯麦公司的主要产品是用来生产大规模集成电路的核心设备光刻机。
- 在世界同类产品中有90%的市占率，在10纳米节点以下有100%的市占率。
- 阿斯麦公司2017年销售额90亿5300万欧元，利润21亿1900万欧元
- 2008年阿斯麦在半导体组件设备制造商中超过东京电子成为世界第2位。
- 2010年，以销售额计算阿斯麦公司高端光刻机市占率已达到将近90%。
- 2011年阿斯麦公司于半导体设备商已超过美厂应用材料成为世界第一大半导体设备商。
尼康
尼康尼克尔50mm/1.8D镜头
尼康一直致力于光学和影像产品的研究开发，其产品包括照相机、相机镜头、集成电路制造设备、液晶制造设备、望远镜、显微镜、投影机、眼镜和测量仪器。到2013年3月为止，公司共有24,047名雇员
佳能
佳能，是一家生产影像、光学、医疗设备、半导体工业设备和办公自动化产品的日本企业制造商，产品包括照相机、摄影机、影印机、传真机、影像扫描器、打印机、眼科及X光成像设备、电影摄影机和镜头、半导体曝光机等。
上海微电子装备
- 上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）是我国**半导体装备制造商，主要生产半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。
- 目前最先进的光刻机制程为90nm
我国**的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能**的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
就算是进口也没有那么容易，由于美国主导《瓦森纳协议》的**，我国只能买到ASML的中低端产品，出价再高，也无法购得ASML的高端设备。例如：Intel、三星、台积电2015年能买到ASML10 nm的光刻机。而**的中芯国际，2015年只能买到ASML 2010年生产的32 nm的光刻机，5年时间对半导体来说，已经足够让市场更新换代3次了。
光刻机霸主为什么不是美国？
目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有阿斯麦、尼康、佳能三家，根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，阿斯麦公司占据大约60%的市场占有率。而最高端市场，阿斯麦公司大约目前占据90%的市场占有率，在10纳米节点以下获取100%市占率，同业竞争对手已无力追赶。
凭什么是欧洲这个小国荷兰的阿斯麦公司做到连美国霸主都没有做到的事情？
- 1984年，36年前，ASML公司成立，在默默无闻10多年后，被老大哥尼康和佳能夹击下，当时的光刻机市场出现了前所未有的瓶颈，65nm的芯片的制造工艺迟迟无法突破，导致芯片的性能也受阻。
- 这个时候日本的两个老大哥选择稳健的道路，选择157nm的激光光源，但是这个时候ASML小弟决定要搞点事情，我更正大哥的脚步肯定是不行的，决定放手一搏，选择更为激进的技术：浸润式光刻机，
- 当时**电机工程师林本坚提出以水为介质可以制作浸润式光刻机，也就是他在2002年研发出193纳米浸润式微影技术。ASML抓住了这个关键的转折点
- 经过三年的攻关，终于获得了成功
我们国家有能力生产高性能光刻机么？我个人相信我们的光刻机发展也将最终进入大规模自主生产的阶段。还是那句话，一切只是时间问题！
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